Downstream-Plasmacleaner

Remote-Plasmacleaner für REM, FIB-REM, XPS, ALD, EUVL und mehr

EM-KLEEN und SEMI-KLEEN

Die PIE Scientific EM-KLEEN und SEMI-KLEEN Remote-Plasmacleaner basieren auf hocheffizienter „Inductively Coupled Plasma (ICP) Discharge“ Technologie, entwickelt am Lawrence Berkeley National Laboratorium. Verglichen mit traditioneller ICP Discharge Technologie, verbessert die von PIE Scientific patentierte Turbo Discharge™ Technologie die Plasmastärke sogar noch um das Dreifache.

Die SEMI-KLEEN und EM-KLEEN Plasmacleaner Systeme bieten eine schonende Plasmacleaning Lösung für die Kontrolle über Kontaminationen in Hochvakuumsystemen wie REM, FIB, AES, XPS, ALD, EUVL, etc. (Dekontaminierung).
Die Systeme bestehen aus einer Kontrolleinheit und einer Remote-Plasmaquelle. Die Remote-Plasmaquelle wird an der Vakuumkammer angeflanscht. Die Kontrolleinheit überträgt die RF-Leistung zur Plasmaquelle. Sie bricht das Prozessgas wie Sauerstoff, Wasserstoff oder andere Gasmischungen auf und generiert reaktive Radikale. Diese diffundieren dann in die Vakuumkammer und reagieren dort mit Kontaminanten auf Probenoberflächen und in der Kammer. Die resultierenden Abfallprodukte werden einfach weggepumpt. Dabei kann der Remote-Plasmacleaner gleichzeitig Vakuumsystem und Probe reinigen.

Remote-
Plasmaquelle
EM-KLEEN
SEMI-KLEEN
EinsatzgebieteREM, FIB, TEM,
XPS, SIMS, AES
REM, FIB, TEM, CD-REM, EBR, EBI, XPS, SIMS, AES
KammerQuarzröhreQuarzröhre
max. RF-Leistung75 Watt
75 oder 100 Watt
Arbeitsdruck0,133 - 666 Pa
0,133 - 666 Pa
Impedanzanpassungfestfest oder automatisch
Low Particle Design für Halbleiteranwendungennicht erhältlicherhältlich
Drucksensorerweiterter Piranisensor, Bereich 0,01 Pa bis 101.325 Pa
Plasmasensorselbstentwickelter Plasmastärkensensor
Gasflusskontrolleelektronisch kontrolliert, 0 - 50 sccm
KontrolleinheitDesktop Controller oder 19" Rackmount Controller (3HE)
Vakuum-Interface
NW/KF40, CF 2,75" Option erhältlich
Vakuum-Level
in niedrigem Druckbereich von 10-4 Pa
PC Remote-Control UI
RS232/RS485, Windows .Net Framework 4.0 oder höher

Typische Anwendungen

  • In-situ Probenreinigung für FE-REM, FIB und TEM
  • Entfernung von Kontaminationen bei Halbleiter-Equipment wie CD-REM, EBR, EBI, EUVL
  • Reinigung von Hochvakuumkammern von Elektronenmikroskopen, XPS, AES Systemen durch die Entfernung von Kohlenwasserstoffrückständen
  • Probenreinigung für XPS, SIMS, AES
  • Probenreinigung für ALD nach der Reinigung mit organischen Lösungsmitteln

Das von PIE Scientific entwickelte SmartClean™ Verfahren vereinigt hochentwickelte Plasma-Discharge Technologie aus Nuklearforschung und Halbleiterindustrie. Dadurch sind die EM-KLEEN und Semi-KLEEN Plasmacleaner wesentlich fortschrittlicher als vergleichbare Systeme anderer Hersteller. Viele einzigartige Features sind nur bei den PIE Scientific Systemen zu finden.
SmartSchedule™ ermöglicht die automatisierte Reinigung von Vakuumkammern nach definierten Parametern (z.B. Anzahl der Probenwechsel, festgelegter Zeitintervall)

Vor der Reinigung
Nach der Reinigung
Nach der Reinigung

Besondere Merkmale

  • Säubert normal verschmutzte REM Proben innerhalb weniger Minuten
  • Reinigt ALD Proben mit Wasserstoffplasma in maximal einer Minute
  • Einziges System mit voller Funktionalität im Hochvakuum
  • Das „Low Plasma Potential Design“ reduziert Ionen Sputtering und die Partikelbildung. Zusammen mit der patentrechtlich geschützten Multi-Stage Gasfiltertechnik erfüllt der SEMI-KLEEN höchste Ansprüche von Kunden aus der Halbleiterindustrie.
  • Der einzigartige Plasmastärkensensor überwacht den Status des Plasmas in Echtzeit. Anwender sind über den Status des Plasmas kontinuierlich informiert
  • Die automatische, elektronische Gasflusskontrolle basiert auf durch Drucksensoren gesteuerter Regelungstechnik
  • Intuitive Touchscreen-Kontrolle, Rezeptbibliothek mit bis zu sechzig editierbaren Presets
  • Wahl zwischen ausgeklügeltem Safe Operation Modus und Expert Operation Modus
  • SmartSchedule™ reinigt die Systeme nach einer gewissen Anzahl von Probenbeladungen oder nach einem festgelegten Zeitintervall automatisch
  • Niedrige elektromagnetische Interferenz, geräuscharmer Standby Modus

EM-KLEEN Remote-Plasmacleaner

Kleiner, ausgereifeter und kraftvoller Downstream-Plasmacleaner
für REM, FIB-REM, XPS, SIMS, AES Systeme

Der PIE-Scientific EM-KLEEN Remote-Plasmacleaner kann zur Kammerreinigung von Elektronenmikroskopen und anderen analytischen Instrumenten eingesetzt werden. Das System besteht aus einem Tabletop Controller mit LCD Touchscreen und integriertem Mikrocomputer (optional als 19” Rack-Komponente) sowie einer Remote-Plasmaquelle. Die Plasmaquelle wird an der Vakuumkammer angeflanscht (standardmäßig NW/KF 40, optional ist ein CF 2,75″ Adapter erhältlich).

Das von PIE Scientific entwickelte und patentierte SmartClean™ Verfahren setzt auf modernste High-End-Technologie. Trotz seiner geringen Größe verfügt die EM-KLEEN Plasmaquelle über einen integrierten Pirani-Drucksensor, eine automatische Gasflusskontrolle, ein Kühlgebläsesystem sowie einen Plasmastärke- und Temperatursensor. Ein Durchflussregler stellt automatisch den benutzerdefinierten Gasfluss in der Kammer des Plasmacleaners ein. Der kleine Drucksensor überwacht konstant den Druck in der Probenkammer. Der Drucksensor kann im “Safe Operation” Modus als Sicherheitssperre für den SmartSchedule™ Betrieb eingesetzt werden. Das leistungsstarke Kühlgebläsesystem ermöglicht zusammen mit dem Temperatursensor schnelle Hochleistungsreinigung ohne Überhitzung. Der Plasmastärkensensor misst die Plasmastärke in Echtzeit, so dass der Anwender immer über den Plasmastatus informiert ist. All diese Features erlauben den automatischen Betrieb des EM-KLEEN und beugen Fehlbedienungen vor.

Besondere Merkmale

  • Mit „Low Pressure High Efficiency Plasma Discharge Technology“, entstanden aus einer Forschungsarbeit am „Lawrence Berkeley National Laboratory“
  • Sofortige Plasmazündung bei extrem niedrigem Druck – der Anwender braucht sich nicht darum zu kümmern, ob das Plasma zündet oder nicht
  • Elektronische Gasflusskontrolle mit durch Drucksensor gesteuerter Regelungstechnik
  • Plasmasonde überwacht die Plasmastärke und überwacht anwenderdefinierte Presets. Der Gasfluss kann so optimal bei verschiedenen Pumpraten und Kammergrößen variiert werden. Der Anwender kann den Gasfluss elektronisch einstellen und den Druck der Plasmaquelle, basierend auf dem Feedback des Plasmastärkesensors anpassen
  • 75 Watt RF-Leistung bei 13,56 MHz
  • Mikrocomputer mit intuitiver Touchscreen-Kontrolle
  • Intuitives „Remote PC Control User Interface“ durch RS232 / RS485 Protokoll
  • Ausgeklügelter „Safe Operation“ und „Expert Operation“ Modus mit vom Anwender anpassbaren Warnmeldungen – sehr hilfreich, falls ein Ionen- oder Elektronenmikroskop von mehreren unerfahrenen Anwendern abwechselnd genutzt wird
  • SmartSchedule™ reinigt das System automatisch nach einer vorgegebenen Anzahl von Probenbeladungen oder nach einem festgelegten Zeitintervall
  • Rezeptbibliothek mit bis zu sechzig editierbaren Presets
  • Leistungsstarkes Kühlgebläsesystem für schnelle Hochleistungsreinigung
  • Übertemperatursicherung
  • Leichter Desktop Controller zum einfachen Transport zwischen verschiedenen Systeme

SEMI-KLEEN Quartz Remote-Plasmacleaner

Kleiner, ausgereifeter und kraftvoller Downstream-Plasmacleaner
für Produktionsmittel zur Halbleiterherstellung

Der PIE-Scientific SEMI-KLEEN Quartz Remote-Plasmacleaner wurde entwickelt, um selbst den extrem hohen Ansprüchen in der Halbleiterindustrie zu entsprechen. Der SEMI-KLEEN Quartz kann bei Elektronenstrahl-Prüfsystemen (EBR), Elektronenstrahl-Inspektionssystemen (EBI), CD-REM, Elektronenstrahl-Lithographiesystemen, EUV Lithographie (EUVL) und EUV eingesetzt werden.

Wie die EM-KLEEN Plasmaquelle verfügt auch der SEMI-KLEEN über einen integrierten Pirani-Drucksensor, eine automatische Gasflusskontrolle, ein Kühlgebläsesystem sowie einen Plasmastärke- und Temperatursensor. Darüber hinaus wurde der PIE Scientific SEMI-KLEEN Plasmacleaner mit modernster Technologie aus der Halbleiterindustrie ausgestattet, um das Risiko der Partikelbildung zu mindern. Das niederpartikuläre Design des SEMI-KLEEN wurde von Produktionsmittelherstellern der Halbleiterindustrie für tauglich befunden. Der SEMI-KLEEN Quartz Plasmacleaner verfügt über eine hochreine Quarzröhre. Er kann O2, Ar+O2, H2, Ar+H2 und Luftplasma bei niedrigem Druck erzeugen.

Besondere Merkmale SEMI-KLEEN Quartz

  • Zweiphasige Partikelfilterungstechnologie, die fast alle Partikel > 3 nm entfernen kann
  • Niederpartikuläre, hochverlässliche Plasmaquellentechnologie für die Halbleiterindustrie
  • Option zur Unterstützung automatischer RF-Impedanzanpassung
  • Sofortige Plasmazündung bei extrem niedrigem Druck – der Anwender braucht sich nicht darum zu kümmern, ob das Plasma zündet oder nicht
  • Elektronische Gasflusskontrolle mit durch Drucksensor gesteuerter Regelungstechnik
  • Plasmasonde überwacht die Plasmastärke und überwacht anwenderdefinierte Presets. Optimal kann der Gasfluss bei verschiedenen Pumpgeschwindigkeiten und Kammergrößen variieren. Der Anwender kann den Gasfluss elektronisch einstellen und den Druck der Plasmaquelle, basierend auf dem Feedback des Plasmastärkesensors, optimieren
  • 75 Watt RF-Leistung bei 13,56 MHz (optional 100 Watt RF-Leistung)
  • Mikrocomputer mit intuitiver Touchscreen-Kontrolle
  • Intuitives „Remote PC Control User Interface“ durch RS232 / RS485 Protokoll
  • SmartSchedule™ reinigt das System automatisch nach einer vorgegebenen Anzahl von Probenbeladungen oder nach einem festgelegten Zeitintervall
  • Rezeptbibliothek mit bis zu sechzig editierbaren Presets
  • Leistungsstarkes Kühlgebläsesystem für schnelle Hochleistungsreinigung
  • Übertemperatursicherung